2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.1 強誘電体薄膜

[12a-N301-1~11] 6.1 強誘電体薄膜

2021年9月12日(日) 09:00 〜 12:00 N301 (口頭)

内田 寛(上智大)、田岡 紀之(名大)、川江 健(金沢大)

11:15 〜 11:30

[12a-N301-9] パルスレーザー堆積法によるK(Ta, Nb)O3薄膜の作製とその電気光学特性評価

〇(M2)櫻井 裕次1、山田 智明1、近藤 真矢2、吉野 正人1、長﨑 正雅1 (1.名大工、2.岡大院)

キーワード:強誘電体、電気光学効果

K(Ta, Nb)O3 (KTN)はバルク単結晶にて巨大な2次の電気光学(EO)効果を示すことが知られているが、高品質な薄膜の作製が難しいため、薄膜におけるEO特性についてはほとんど知られていない。本研究では、パルスレーザー堆積法にてKTN薄膜を作製し、得られたKTN薄膜のEO特性を明らかにした。