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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.2 薄膜，厚膜，テープ作製プロセスおよび結晶成長

[12a-N402-1~11] 11.2 薄膜，厚膜，テープ作製プロセスおよび結晶成長

2021年9月12日(日) 09:00 〜 12:00 N402 (口頭)

尾崎壽紀(関西学院大)、寺西亮(九大)

09:15 〜 09:30

△ [12a-N402-2] 水リフトオフ法を用いたBi系高温超伝導体薄膜の微細加工

〇(M2)橋本歩¹、梶谷亮介¹、長尾雅則²、川江健¹ (1.金沢大理工、2.山梨大院クリスタル研)

キーワード：選択成長、酸化物薄膜、Bi系高温超伝導体