2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

[12a-N402-1~11] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

2021年9月12日(日) 09:00 〜 12:00 N402 (口頭)

尾崎 壽紀(関西学院大)、寺西 亮(九大)

09:30 〜 09:45

[12a-N402-3] Bi2223材料の高磁場応用に向けた化学組成制御

宮本 能伸1、元木 貴則1、武田 宗一郎2、中島 隆芳2、山出 哲2、下山 淳一1 (1.青学大理工、2.住友電工)

キーワード:超伝導体、ビスマス系

(Bi,Pb)2Sr2Ca2Cu3Oy[Bi2223]超伝導線材は量産レベルで実用的な高い臨界電流値を有し、すでに様々な用途に用いられている。Bi2223の大きな電気的磁気的異方性に由来し、高温、磁場中でのJcはRE123材料よりも低いが、BiサイトへのPb置換量の増大がその改善に有効であるという方針は示されている。本研究ではBi2223線材の臨界電流特性改善を目的として、c軸配向Bi2223焼結体におけるBi2223結晶内の実効Pb置換量を大きくする出発組成、熱処理条件の最適化を進めている。