2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.4 アナログ応用および関連技術

[12a-N403-1~7] 11.4 アナログ応用および関連技術

2021年9月12日(日) 09:00 〜 11:00 N403 (口頭)

川上 彰(情通機構)、柴田 浩行(北見工大)

09:30 〜 09:45

[12a-N403-3] ヘリウムイオン顕微鏡技術による銅酸化物高温超伝導体YBCO薄膜の物性制御

三澤 哲郎1、井上 陸1,3、石田 茂之1、小川 真一1、森田 行則1、永崎 洋1、内田 慎一1,2、西尾 太一郎3、浦野 千春1 (1.産総研、2.東大、3.東理大)

キーワード:高温超伝導体、ジョセフソン接合、ヘリウムイオン顕微鏡

ジョセフソン接合は量子電圧標準技術として重要である。超伝導体としてNbやNbNを用いたジョセフソン接合の作製技術は確立しているが、高いTcを持つ銅酸化物高温超伝導体によるジョセフソン接合形成は、コヒーレンス長が数ナノメートル程度と短く高品質なトンネル障壁層の作製が難しいため確立していない。本論文では、YBCOジョセフソン素子の作製へ向け、HIM技術によるYBCO薄膜の物性制御に取り組んだ結果について述べる。