2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[12a-S203-1~9] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2021年9月12日(日) 09:00 〜 11:30 S203 (口頭)

山田 浩之(産総研)

09:00 〜 09:15

[12a-S203-1] [講演奨励賞受賞記念講演] NaOH水溶液中電場印加によるYOxHy薄膜の金属-絶縁体転移

小松 遊矢1、清水 亮太1、ビルデ マーカス2、西尾 和記1、福谷 克之2,3、一杉 太郎1 (1.東工大物質理工、2.東大生産研、3.原子力機構)

キーワード:金属-絶縁体転移、希土類酸水素化物、薄膜

我々は光誘起伝導を示すイットリウム酸水素化物(YOxHy)のエピタキシャル薄膜を合成し、UVレーザ照射および熱緩和による可逆的な絶縁体-金属転移を初めて報告した。しかし熱以外の外場による絶縁化は未達成である。本研究では、UV光照射により黒色化したYOxHy薄膜に対してNaOH水溶液中で正電場を印加したところ、熱による緩和より大幅に速い~10秒で透明・絶縁化することを見出したため、報告する。