2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.14 光制御デバイス・光ファイバー

[13p-N103-1~12] 3.14 光制御デバイス・光ファイバー

2021年9月13日(月) 13:30 〜 16:45 N103 (口頭)

田中 洋介(農工大)、渡辺 啓(NTT)

14:45 〜 15:00

[13p-N103-6] 側面研磨型中空光ファイバカプラの特性評価

加藤 仁教1、大嶋 佑介1、松浦 祐司2、片桐 崇史1 (1.富山大理工、2.東北大医工)

キーワード:中赤外光、中空光ファイバ、ファイバカプラ

近年,中赤外光の利用が容易となり,多岐にわたる分野への導入が期待されている.中赤外領域の光伝送路としては,中空光ファイバが利用されているが,よりフレキシブルなシステムを構成するため分岐・結合可能なファイバカプラの開発が求められている.我々の研究グループでは,これまでに中空光ファイバを基礎とした側面研磨型のファイバカプラを提案し,製作してきた.本研究では,製作したカプラの特性を評価する.