2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[13p-S203-1~15] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2021年9月13日(月) 13:00 〜 17:00 S203 (口頭)

藤田 貴啓(東大)、相馬 拓人(東工大)

15:45 〜 16:00

[13p-S203-11] エピタキシャル安定化による高圧相ペロブスカイト型CaSiO3の大気圧下回収

〇(DC)笹原 悠輝1、清水 亮太1、西山 宣正2,3、東 正樹3、一杉 太郎1 (1.東工大物質理工、2.住友電工アドバンス、3.東工大フロンティア)

キーワード:エピタキシャル安定化、高圧、準安定相

超高圧下でのみ存在可能な物質を大気圧下に取り出すべく、エピタキシャル安定化に着目し、薄膜試料に対する超高圧処理技術の開発を進めてきた。本研究では、大気圧下に回収できない高圧相物質であるペロブスカイト型CaSiO3に着目し、ペロブスカイト型YAlO3基板上の非晶質CaSiO3薄膜を高圧下で固相エピタキシャル成長させることで、エピタキシャル安定化によって、その人工的な大気圧下回収に初めて成功した。