[13p-S301-1~15] 6.2 カーボン系薄膜

[13p-S301-9] 低エネルギー陽電子線・軟X線放射光を用いたDLC膜の構造解析

〇神田 一浩¹、赤坂 大樹²、堀 史説³、薮内 敦⁴、木野村 淳⁴ (1.兵県大高度研、2.東工大工、3.大阪府大工、4.京大複合研)

キーワード：アモルファス炭素膜、陽電子消滅法、X線吸収端近傍微細構造

京大研究炉(KUR)のB-1孔の低速陽電子ビームシステムにおける陽電子消滅分光分析（PAS）の測定とニュースバルBL09A におけるX線吸収端近傍微細構造(NEXAFS)の測定からDLC膜の構造を考察した。フィルタードカソード真空アーク法で合成されたDLC膜は，高いマルテンス硬さを持ち，陽電子寿命とSパラメータは他のDLC膜よりも小さく、炭素のsp²/(sp²+sp³)比も小さい値を示す。