2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[22a-P03-1~16] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2021年9月22日(水) 09:00 〜 10:40 P03 (ポスター)

09:00 〜 10:40

[22a-P03-4] Pt/Ti1-xFexO2-d/Ptクロスポイント構造膜の脳型的な電流応答

〇(M2)福島 吉顕1、石田 潤一郎1、高田 文朝1、堀場 弘司2、組頭 広志2,3、樋口 透1 (1.東理大理、2.高エネ研、3.東北大多元研)

キーワード:酸化物半導体、脳型特性

本研究では、TiO2にFeをドープしたPt/Ti1-xFexO2-d/Ptクロスポイント構造膜をスパッタ法に作製し、パルス電圧の電圧間隔を変えたメモリ特性の評価を行い、ドープ量の変化によるメモリ特性の変化を評価したので報告する。この構造膜は、整流作用をもつショットキー特有のI-V特性を示した。短い時間間隔を持つパルスをかけたところ、不揮発的な電流応答を示した。