[22a-P05-1~5] 6.5 表面物理・真空

[22a-P05-3] ガス導入による NAP-HAXPES の帯電解消および試料表面の圧力測定(2)

〇(M1)竹中 研人¹、足立 健太¹、高原 光司²、住田 弘祐³、鈴木 哲² (1.兵県大理、2.兵県大高度研、3.マツダ（株）)

キーワード：NAP-HAXPES

前回我々は、準大気圧硬X線光電子分光 (Near-Ambient-Pressure Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy: NAP-HAXPES)装置を用いてガラス板などの帯電が窒素ガス圧2500 Paで解消されることを示した [1]。帯電解消は、ガス中での電子の散乱によって形成される二次電子が試料表面の帯電を中和するためと考えられる。今回は、帯電解消に必要な圧力が試料とアナライザーのフロントコーン間の距離d（図2の挿入図参照）に強く依存することを明らかにした。