[22p-P01-1~12] 8 プラズマエレクトロニクス(ポスター)

[22p-P01-8] アセチレンプラズマ中でのアモルファス炭素膜の成膜メカニズムの検討

〇(M1)中居 辰夫¹、桑田 篤哉¹、佐々本 凌¹、篠原 正典¹ (1.福岡大)

キーワード：アモルファス炭素膜、アセチレンプラズマ、多重内部反射赤外吸収分光法

アモルファス炭素膜は様々な有能な性質を持ち広く産業応用されている。しかしその成膜メカニズムは十分に知られていない。そこで，アセチレンを原料としたプラズマCVDについて，アモルファス炭素膜の成膜過程を多重内部反射赤外吸収分光法で計測した。赤外分光法で計測される様々な成分は，それぞれ成膜時間とともに増加するものの，増加率は異なった。この違いから，成膜メカニズムについて考察したので，発表する。