[23a-P04-1~5] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[23a-P04-2] トポロジカル絶縁体Bi₂Se₃エピタキシャル膜における偏光ラマンスペクトルの膜厚依存性

〇野崎 孝武¹、近藤 智裕¹、寺井 慶和¹ (1.九工大情報工)

キーワード：Bi2Se3、トポロジカル絶縁体

本研究では基板温度120 ºCの低温1段階成長法を用いて膜厚の異なるBi₂Se₃エピタキシャル膜を成長し，偏光ラマンスペクトルを測定した．その結果，偏光解消度評価によりディラック点にギャップが開く2次元限界膜厚が評価できることを見いだしたので報告する．