[23p-P13-1~22] 17 ナノカーボン(ポスター)

[23p-P13-20] 層状ヒ化シリコン膜の作製と評価

〇加々美 朱羽¹、鈴木 裕一郎¹、浦上 法之^1,2、橋本 佳男^1,2 (1.信州大工、2.信州大　先鋭材料研)

キーワード：層状半導体、結晶成長、材料評価