15:15 〜 15:30 [16p-Z26-8] キャップ層を用いたアニールによるHfO2膜中歪み操作と強誘電相安定化効果の面内および面外方向へのX線回折を用いた評価 〇籾山 陽紀1、Nittayakasetwat Siri1、喜多 浩之1 (1.東大マテ工)