一般セッション(口頭講演)
21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
2021年3月18日(木) 13:00 〜 18:00 Z33 (Z33)
山本 哲也(高知工科大)、井手 啓介(東工大)、嶋 紘平(東北大学)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:00 〜 13:30
〇板垣 奈穂1 (1.九大)
スケジュール
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13:30 〜 13:45
〇(D)Wai HtetSu、Chaoyang Li
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13:45 〜 14:00
〇(DC)ISLAM MOHAMMAD SHAFIQUL1、Yuki Konishi1、Raj Deep1、Jie Lin2、Toshiyuki Yoshida1、Yasuhisa Fujita1,2 (1.Shimane University、2.S-Nanotech Co-Creation Ltd)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇(DC)ISLAM MOHAMMAD SHAFIQUL1、Yuki Konishi1、Raj Deep1、Jie Lin2、Toshiyuki Yoshida1、Yasuhisa Fujita1,2 (1.Shimane University、2.S-Nanotech Co-Creation Ltd)
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14:15 〜 14:30
〇高坂 亘1、星 翔馬2、工藤 幹太1、猪狩 有生1、金子 健太郎2、山口 智弘1、藤田 静雄2、尾沼 猛儀1 (1.工学院大学、2.京大院工)
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14:45 〜 15:00
〇(M1)松原 太一1、久志本 真希1、渡邊 浩崇2、古澤 優太2、新田 州吾2、本田 善央2,3,4、天野 浩2,3,5 (1.名大院工、2.名大未来材料・システム研究所、3.名大VBL、4.名大高等研究院、5.名大赤崎記念研究センター)
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15:00 〜 15:15
〇野本 淳一1、牧野 久雄2、土屋 哲男1、山本 哲也2 (1.産総研先進コーティング技術研究センター、2.高知工科大総研)
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15:15 〜 15:30
〇遠藤 治之1、二瓶 貴之1、鈴木 一孝1、茨島 明1、柏葉 安兵衛2 (1.岩手県工技センタ、2.岩手大)
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15:30 〜 15:45
〇山本 哲也1、野本 淳一2、牧野 久雄1、中島 智彦2、土屋 哲雄2 (1.高知工科大総研、2.産総研先進コーテイング技研センター)
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15:45 〜 16:00
〇山田 容士1、正力 幹也1、杉浦 怜1、舩木 修平1 (1.島根大総理工)
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16:15 〜 16:30
〇奥村 宏典1 (1.筑大院数理)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇神野 莉衣奈1、奥村 宏典1 (1.筑波大数理)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇中込 真二1、國分 義弘1 (1.石巻専修大理工)
スケジュール
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17:00 〜 17:15
〇(M1)孫 芸華1、池之上 卓己1、三宅 正男1、平藤 哲司1 (1.京大院エネ科)
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17:15 〜 17:30
〇大島 祐一1、河原 克明2、大島 孝仁2、四戸 孝2 (1.物材機構、2.FLOSFIA)
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17:30 〜 17:45
〇(B)長野 理紗1、江間 研太郎1、佐々木 公平2、倉又 朗人2、村上 尚1 (1.東京農工大学院工、2.(株)ノベルクリスタルテクノロジー)
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17:45 〜 18:00
〇前田 拓也1、沖川 満2、加藤 勇次2、高橋 勲2、四戸 孝2 (1.京大院工、2.FLOSFIA)
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