2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

17 ナノカーボン » 17.2 グラフェン

[16a-Z31-1~11] 17.2 グラフェン

2021年3月16日(火) 09:00 〜 12:00 Z31 (Z31)

日比野 浩樹(関西学院大)

11:45 〜 12:00

[16a-Z31-11] グラフェンの単色光酸化および還元を用いた書き換え可能な化学パターン形成

豊内 秀一1,2、Wolf Mathias1、猪瀬 朋子3、平井 健二3、藤田 康彦1,4、De Feyter Steven1、雲林院 宏1,3 (1.ルーバン大、ベルギー、2.国立交通大、台湾、3.北大電子研、4.東レリサーチセンター)

キーワード:グラフェン、光酸化、還元、化学パターニング

水存在下でグラフェンにレーザーを照射すると、グラフェンが位置選択的に光酸化することが報告されている。我々の研究で、光酸化に用いる同一レーザーの強度を調整するだけで、酸化されたグラフェンを光還元することが可能であることが明らかになった。本講演ではこれらグラフェン光酸化、光還元法とレーザーダイレクトライティング法を組み合わせてグラフェン上に書き換え可能な化学パターンを形成した結果を報告する。