[16a-Z34-1~11] CS.1 2.4 加速器質量分析・加速器ビーム分析、7.5 イオンビーム一般のコードシェアセッション

△ [16a-Z34-3] イオン照射を用いたScAlN薄膜の極性制御

〇(B)工藤 慎也^1,2、天野 凌輔^1,2、柳谷 隆彦^1,2,3 (1.早大先進理工、2.材研、3.JST-CREST)

キーワード：ScAlN薄膜、極性制御、イオン照射

極性反転多層膜では高次モードで音波の励振が可能となり、デバイスの耐電圧向上や高周波化が実現できる。極性反転多層膜を作製するには、圧電薄膜の極性制御が必要である。我々のチームでは、負イオン照射による各結晶面のスパッタ損傷異方性が要因ではないかと推測している。本研究では、この原理を検証するためにイオンビームアシストスパッタ法でScAlNの極性反転膜を作製した。