[17a-P04-1~5] 3.7 レーザープロセシング

[17a-P04-3] 局所レーザー加熱を用いたNi基板上へのグラファイト膜の選択合成

〇藤原 英樹¹、弥勒院 達紀¹、大橋 由梨²、海住 英生^2,3、平井 健二⁴、雲林院 宏⁴ (1.北海学園大工、2.慶大理工、3.慶大スピンセンター、4.北大電子研)

キーワード：グラファイト、レーザープロセッシング、レーザー加熱

本発表では、エタノール中のNiまたはNiFe薄膜コートガラス基板を集光レーザーで局所加熱することで基板上に炭素材料を選択的に形成する方法について紹介する。