2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[17p-Z27-1~14] 15.4 III-V族窒化物結晶

2021年3月17日(水) 13:00 〜 17:00 Z27 (Z27)

ホームズ マーク(東大)、市川 修平(阪大)、大音 隆男(山形大)

14:30 〜 14:45

[17p-Z27-6] SiO2薄膜によるInGaN/GaN量子井戸を有する窒化物半導体の高効率発光

垣内 晴也1、島ノ江 考平1、松山 哲也1、和田 健司1、船戸 充2、川上 養一2、岡本 晃一1 (1.阪府大工、2.京大工)

キーワード:窒化物半導体、高効率発光

InGaN/GaN量子井戸に基づく発光ダイオード(LED)の発光効率を改善するための様々な研究が行われてきたが、In組成の増加につれて発光効率が著しく減少し、緑色領域での高効率化が困難なグリーンギャップ問題は未だ残されている。我々は金属薄膜による表面プラズモン共鳴を用いた簡単・安価な高効率発光について報告してきたが、金属は損失も大きく緑色領域を増強するのに適した金属がないという問題がある。今回は、表面に金属の代わりにSiO2薄膜を成膜することで、特に緑色領域の発光効率が著しく改善されるという驚くべき現象を発見したので報告する。