[18a-Z17-1~11] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

△ [18a-Z17-7] 固体ソース支援プラズマ化学気相蒸着法により高速形成されたフルオロカーボン膜の特性評価

〇中塚 宏学¹、田中 領¹、垣内 弘章¹、安武 潔¹、大参 宏昌¹ (1.阪大院工)

キーワード：プラズマ、フルオロカーボン、化学気相成長法

プラズマ化学気相蒸着(PCVD)法によるフルオロカーボン(FC)膜の形成には、原料に高価なガスを必要としてきた。そこで我々は、廉価なCF₄原料によるFC膜の形成を実現するため、固体ソース支援プラズマ化学気相成長（SAPCVD）法を提案する。本手法では、反応系へ固体炭素原料を導入することによりプラズマガス組成を制御し、FC膜の高速形成が可能となっている。本報告では、SAPCVD法により形成した撥水FC膜の特性について評価し、議論する。