[18p-Z17-1~20] 8.1 Plasma production and diagnostics

[18p-Z17-4] Velocity-field measurements of EUV source plasmas using Thomson scattering

〇Kentarou Tomita¹, Yiming Pan², Kiichiro Uchino² (1.Hokkaido Univ., 2.Kyushu Univ.)

Keywords:Thomson scattaring, EUV light source, velocity field measurements

多価電離プラズマ応用の一つとして、波長13.5 nm（極端紫外、EUV）を用いた半導体リソグラフィー光源（EUV光源）があり、光源生成はSn液滴をターゲットとしたレーザー生成プラズマ(LPP)方式が採用されている。デブリを抑制するために初期のSn原子数は抑制しつつ、半導体光源として許容されるエタンデュ内に、長時間プラズマが供給されるためには、ドーム状のSnターゲットのどの位置のスズ原子がプラズマ化され、どのような速度でどの方向に流れているかを知る必要がある。我々が観測している協同トムソン散乱イオン項スペクトルには、観測方向に関連したドップラーシフトとして、プラズマの流れ情報が含まれている。プラズマの軸対象性を仮定することで、2次元的なプラズマ流れの決定を試みた。講演ではその詳細について報告する。