[19p-Z24-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[19p-Z24-3] ミニマルレーザ加熱装置を使った水素雰囲気でのSi立体構造体の表面処理

〇佐藤 和重^1,4、千葉 貴史^1,4、寺田 昌男^1,4、濱田 健吾^1,4、中山 吉之³、金森 義明³、田中 宏幸²、加瀬 雅²、クンプアン ソマワン^1,2、原 史朗^1,2 (1.ミニマルファブ推進機構、2.産総研、3.東北大工、4.坂口電熱)

キーワード：ミニマルファブ、レーザ加熱

MEMSデバイスの基本構造であるカンチレバー構造を試作し、その立体構造に対して開発中のミニマルレーザ水素アニール装置を用い表面処理を実施し、その効果を調べた。