18:30 〜 18:45 [20p-B203-21] アセチルアセトナート化した原料水溶液を用いたα 型(AlGa)2O3 混晶とα 型Ga2O3 薄膜のミストCVD成長 〇宇野 和行1、田村 大翔1、太田 茉莉香1 (1.和歌山大システム工)