一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.1 光学基礎・光学新領域（旧3.2「材料・機器光学」と統合）
09:00 〜 09:15
〇松森 陽1、杉本 泰1,2、藤井 稔1 (1.神戸大院工、2.JST さきがけ)
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09:15 〜 09:30
〇根来 英利1、杉本 泰1,2、藤井 稔1 (1.神戸大工、2.JST さきがけ)
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09:30 〜 09:45
〇高畠 和起1、岡本 敏弘2、山口 堅三2、原口 雅宣2 (1.徳島大理工、2.徳島大ポストLED)
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09:45 〜 10:00
〇賈 軍軍1、八木 貴志2、水谷 真梨3、山田 直臣3、牧本 俊樹4 (1.早大国際理工、2.産総研、3.中部大院工、4.早大先進理工)
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10:00 〜 10:15
〇柳本 宗達1、山本 直紀1、三宮 工1、秋葉 圭一郎1,2 (1.東京工業大学、2.量子科学技術研究開発機構)
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10:15 〜 10:30
〇外山 遥也1、伊藤 治彦1 (1.東工大工学院)
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10:30 〜 10:45
〇(M2)掛戸 優志1、坂本 盛嗣1、野田 浩平1、佐々木 友之1、田中 雅之2、酒井 丈也3、服部 幸年4、小野 浩司1 (1.長岡技大、2.オプトゲート(株)、3.林テレンプ(株)、4.兵庫県立大)
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10:45 〜 11:00
〇Gh. Saleh1 (1.Saleh Research Centre)
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