2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[20a-A406-1~9] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2022年9月20日(火) 09:00 〜 11:30 A406 (A406)

山本 圭介(九大)、内田 紀行(産総研)

10:45 〜 11:00

[20a-A406-7] ガラス基板上の多結晶シリコンゲルマニウム薄膜トランジスタの特性

佐川 達哉1、楠 浩太朗1、原 明人1 (1.東北学院大工)

キーワード:半導体、シリコンゲルマニウム、薄膜トランジスタ