2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

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13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[20a-A406-1~9] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2022年9月20日(火) 09:00 〜 11:30 A406 (A406)

山本 圭介(九大)、内田 紀行(産総研)

11:00 〜 11:15

[20a-A406-8] ガラス基板上のhigh-k 4端子poly-Si TFTから形成されたCMOSインバータ

永吉 輝央1、野村 海成1、原 明人1 (1.東北学院大工)

キーワード:半導体、シリコン、CMOS