[20a-C101-1~13] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[20a-C101-1] アモルファス薄膜の電子線照射による局所結晶化

〇(M2)棚橋 俊介¹、徳永 智春¹、山本 剛久¹ (1.名大工)

キーワード：原子層堆積法、電子線、結晶化

様々なアモルファス材料において電子線照射による結晶化が報告されている。この手法は、被照射体の微小領域を選択的に結晶化させることができ、新たなファブリケーションへの応用も期待されている。一方で、電子線がどのように作用して結晶化されるのか、未だ明らかにされていない。そこで、成膜したAlO_x薄膜表面に走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて電子線を照射し、透過型電子顕微鏡(TEM)により照射領域の構造を解析することで、結晶化機構の解明を試みた。