[20a-C101-1~13] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[20a-C101-7] ネガ型レジストを対象とした電子線リソグラフィの分子動力学解析

〇山田 絵斗¹、平井 義彦²、安田 雅昭² (1.阪府大院工、2.阪公大院工)

キーワード：電子線リソグラフィ、分子動力学、レジスト

ネガ型レジストを対象に電子線リソグラフィの分子動力学シミュレーションを開発した。ランダムに分子を配置して作成したレジスト構造を対象に、露光による吸収エネルギー分布に比例させてレジスト分子間に架橋結合を形成して露光を再現した。現像は一定の分子量以下のポリマーをレジスト中より除去することで再現した。シミュレーションにより再現されたパターン形状は露光量に依存したラインエッジラフネスの傾向を示した。