2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[20p-C302-1~12] 6.4 薄膜新材料

2022年9月20日(火) 13:30 〜 16:45 C302 (C302)

村岡 祐治(岡山大)

15:15 〜 15:30

[20p-C302-7] パルスレーザ堆積法による(111)配向LaHx薄膜の作製と水素量制御

〇(D)曹 子陽1、相馬 拓人1、大友 明1 (1.東工大物質理工)

キーワード:ランタン水素化物、PLD、薄膜

La水素化物は,LaH10+xにおける室温超伝導やLaH3‒2xOxにおける高速ヒドリドイオン伝導の発見により近年注目を集めている.一方で,LaHx(2 ≤ x ≤ 3)は,xの増加とともに金属から絶縁体に変化することが知られている.これらの物性は多結晶のバルク体で研究されており,LaHxの単結晶化には低い分解温度をいかにして克服するかが鍵と言える.本研究では,PLD法を用いることで水素量を制御したLaHx薄膜の合成に取り組んだ.