2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[21a-A105-1~9] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2022年9月21日(水) 09:00 〜 11:30 A105 (A105)

赤羽 浩一(NICT)、西永 慈郎(産総研)

09:00 〜 09:15

[21a-A105-1] 高Sbビーム等価圧力によるAlInSb薄膜結晶の高品質化の検討

町田 龍人1、赤羽 浩一1、渡邊 一世1、原 紳介1、笠松 章史1 (1.情報通信研究機構)

キーワード:アンチモン系化合物半導体、ヘテロエピタキシャル成長、3次元核形成

本研究では,Sbビーム等価圧力(BEP)がGaAs上AlInSb薄膜結晶の分子線エピタキシー成長に与える影響をX線回折スペクトル半値幅との関係から調査し,その結晶の高品質化について検討した。結果,Sb BEPの増加によってAlおよびIn原子の表面マイグレーション長が短くなることで成長初期のAlInSb 3次元核が小型・高密度になり,薄膜結晶性が向上したことを示唆していた。