[21a-C206-1~13] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

△ [21a-C206-2] マイクロコンタクトプリンティングを併用したシリコンの気相中酸化グラフェンアシストエッチング

〇窪田 航¹、山岡 遼也¹、宇都宮 徹¹、一井 崇¹、杉村 博之¹ (1.京大院工)

キーワード：アシストエッチング、酸化グラフェン、触媒

シリコン表面微細加工技術の一つとして，貴金属や炭素材料を触媒として用いたアシストエッチングが注目されている．近年，この手法の一つとして，気相中でのアシストエッチングが注目されている．これまでに我々は酸化グラフェン(GO)を触媒として用いたシリコンの気相中アシストエッチングが可能であることを報告した．今回我々はマイクロコンタクトプリンティング(µCP)を用いてGOパターンを形成し，エッチング位置制御に成功した．