2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[21p-A301-1~13] 1.3 新技術・複合新領域

2022年9月21日(水) 13:00 〜 16:45 A301 (A301)

松谷 晃宏(東工大)

14:30 〜 14:45

[21p-A301-6] MOD法によるガラス基板へのVO2薄膜成長と特性評価

〇(M1)扶川 泰斗1、豊田 和晃1、小山 政俊1、廣芝 伸哉1、小池 一歩1、和田 英男1 (1.大工大 ナノ材研)

キーワード:二酸化バナジウム、スマートウィンドウ

二酸化バナジウム (VO2) は通常70℃付近で結晶構造変化を伴う金属絶縁体転移(MIT)を示す。本研究では,ガラス基板にHf0.5Zr0.5O2 (HZO) を形成しNb添加VO2薄膜を成膜して相転移温度の低温化を行った。その結果,HZOバッファ層はガラス基板成分の拡散を防ぐとともに反射低減を助長し可視光透過率と近赤外調光率の向上に寄与することがわかった。