[21p-C206-1~13] 7.1 X線技術

[21p-C206-1] 2～4 keV領域高回折効率高分解能軟X線ラミナー型多層膜回折格子の設計(II)

〇小池 雅人^1,2,3、羽多野 忠²、ピロジコフ アレキサンダー¹、上野 良弘⁴、寺内 正己² (1.量研量子ビーム、2.東北大多元研、3.大阪公大院工、4.島津製作所基盤研)

キーワード：回折格子、軟X線多層膜、回折効率

keV領域の軟X線回折格子において、現在利用できる技術的限界までの格子溝製作技術、多層膜製作技術を用いる場合に実現可能な最高性能を計算で予測することとした。今回は溝本数:3,200 本/mm、溝深さ:2.05 nmのラミナー型回折格子上に3種の膜種からなる所謂スーパーミラー構造の多層膜を積層し、2～4 keVの領域で高回折効率と高分解能を呈する回折格子を設計したので報告する。