[21p-P12-1~54] 17 ナノカーボン(ポスター)

[21p-P12-13] 極微細構造を有するNiパターンの凝集現象を用いたサファイア基板上転写フリーグラフェン膜の作製

〇加藤 一朗¹、久保 俊晴¹、三好 実人¹、江川 孝志¹ (1.名工大)

キーワード：グラフェン、EB露光、金属凝集

本研究では、金属パターン付き基板上で金属触媒を凝集させる技術を用いることで転写フリーグラフェンを絶縁基板上に形成した。その際EB露光およびNi蒸着によるサブミクロン間隔のNiパターン作製、およびグラフェン形成を試みた。結果としてサブミクロン幅の結晶性の良いグラフェンを観測できた。I_G/I_Dは2.24であり、前回報告した値よりも小さな値となったが、今後プロセスを改良することで改善できると考えられる。