[22p-A202-1~22] 6.2 カーボン系薄膜

[22p-A202-4] マグネトロンスパッタ法により作製した炭化ホウ素膜特性に及ぼす水素の効果

〇西田 竜也¹、谷口 颯¹、佐藤 聖能¹、小林 康之¹、遠田 義晴¹、鈴木鈴木 裕史¹、吹留 博一²、中澤 日出樹¹ (1.弘前大、2.東北大)

キーワード：炭化ホウ素

B₄Cターゲットを用いたマグネトロンスパッタ法により炭化ホウ素（B₄C）薄膜を作製し、Ar に対するH₂の流量比が膜特性に及ぼす影響を調べた。H₂流量比の増加と共に臨界荷重（付着力）は減少し、このとき内部応力と負の相関関係があることがわかった。またH₂流量比が増加すると、光学バンドギャップおよび比抵抗は増加した。これら諸特性と構造・化学結合状態との関連性を議論した。