[22p-A406-1~15] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[22p-A406-9] 反応性プラズマプロセスを用いた高性能IGZO薄膜トランジスタの低温形成

〇竹中 弘祐¹、林 祐仁¹、都甲 将¹、江部 明憲²、節原 裕一¹ (1.阪大接合研、2.イー・エム・ディー)

キーワード：IGZO、スパッタリング