[22p-C202-1~12] 6.4 薄膜新材料

△ [22p-C202-10] 複合成膜手法により成膜された低屈折率SiO₂光学薄膜の親水性評価[4]

〇(M2)伊藤 睦記¹、松平 学幸²、室谷 裕志¹ (1.東海大院工、2.(株)シンクロン)

キーワード：光学薄膜、親水性

本研究室ではDCパルススパッタリング法とEB蒸着を同一真空容器内で同時に稼働させ, 連続的に成膜を行う複合成膜手法を開発し, SiO₂光学薄膜の低屈折率化に成功している.通常のSiO₂コートガラスは成膜直後こそ親水性だが, 1週間程度で疎水性になる.それに対して複合成膜手法では成膜から1年間経過しても親水性を維持している. 本研究では, この低屈折率 SiO₂光学薄膜の親水機能の持続性のメカニズムの解明と評価を目的とした.