[22p-C202-1~12] 6.4 薄膜新材料

△ [22p-C202-7] La₃Ni₂O₇薄膜のエピタキシャル成長と還元アニールによる層状構造制御

〇後藤 祐己¹、河村 和哉¹、金子 健太¹、金子 智^2,1、吉本 護¹、松田 晃史¹ (1.東工大物質理工、2.神奈川産技総研)

キーワード：エピタキシャル薄膜、ニッケル酸ランタン、ルドルスデンポッパー

層状ニッケル酸化物であるLa₃Ni₂O₇はイオン伝導性等から燃料電池やガスセンサへの応用が期待されているが、La₃Ni₂O₇を含むn≥2のLNOエピタキシャル薄膜とドーピングに関する報告はまだ少ない。高配向薄膜合成や導電特性−構造相関の知見を得ることにより、超伝導材料探索への発展も期待される。
本研究では、LNO薄膜の電子機能及び構造制御を目的とし、La₃Ni₂O₇エピタキシャル薄膜のPLD合成および還元アニールによる特性・構造変化を検討した。