一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス
2022年3月22日(火) 13:30 〜 17:00 E204 (E204)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 13:45
〇(B)木村 凜太郎1、神永 健一2、丸山 伸伍2、松本 祐司2 (1.東北大工、2.東北大院工)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇(M2)張 レイ飛1、藤田 貴啓1、川﨑 雅司1,2 (1.東大院工、2.理研CEMS)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇(D)Binjie Chen1、Yuqiao Zhang2、Hiromichi Ohta3 (1.IST-Hokkaido U.、2.Jiangsu U.、3.RIES-Hokkaido U.)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇金子 健太1、庄司 拓貴1、大賀 友瑛1、金子 智2,1、吉本 護1、松田 晃史1 (1.東工大物質理工、2.神奈川県産技総研)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇鈴木 肇1、佐伯 昭紀2、阿部 竜1 (1.京大院工、2.阪大院工)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇(M2)山本 星斗1、江草 俊2、石井 久夫1,3,4、田中 有弥1,3 (1.千葉大院融合、2.株式会社東芝、3.千葉大先進、4.千葉大MCRC)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇鈴木 静華1、太宰 卓朗1、高橋 竜太1 (1.日大工)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇(D)Aimi Safaruddin1、Juan Paolo S. Bermundo1、Mutsunori Uenuma1、Atsuko Yamamoto2、Yukaru Uraoka1 (1.NAIST、2.MERCK)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇Zhiping Bian1、Jiangtao Zhao1、Heng Cao1、Yongqi Dong1,2、Zhenlin Luo1 (1.NSRL, USTC、2.SIAT, CAS)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇(D)Fenfen Fenda Florena1、Aboulaye Traore1、Takeaki Sakurai1 (1.Univ. of Tsukuba)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇(M2)佐藤 健人1、林 侑介1、藤平 哲也1、酒井 朗1 (1.大阪大基)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇(M2)谷口 奈穂1、林 侑介1、藤平 哲也1、酒井 朗1 (1.大阪大基)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇(M2)菅原 広太1,2、島 久2、内藤 泰久2、菅 洋志1、秋永 広幸2 (1.千葉工大、2.産総研)
スケジュール
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