一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術
13:30 〜 13:45
〇(M1)堀内 憲志郎1、佐藤 拓磨1、花房 宏明1、東 清一郎1 (1.広島大先進理工)
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13:45 〜 14:00
〇Jiawen Yu1、Keiya Fujimoto1、Kotaro Matsuguchi1、Takuma Sato1、Hiroaki Hanafusa1、Seiichirou Higashi1 (1.Hiroshima Univ.)
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14:00 〜 14:15
〇西原 達平1、町田 雅武2、小椋 厚志1,3 (1.明治大、2.シエンタオミクロン(株)、3.明大再生可能エネルギーインスティテュート)
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14:15 〜 14:30
〇古幡 裕志1、斎藤 陽斗2、牧原 克典1、大田 晃生1、田岡 紀之1、宮﨑 誠一1 (1.名大院工、2.名大工)
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14:30 〜 14:45
〇石井 寛仁1,2、張 文馨2、石井 裕之2、柯 夢南1、前田 辰郎1,2 (1.東理大、2.産総研)
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14:45 〜 15:00
〇(M1C)江崎 大也1、広瀬 信光2、笠松 章史2、松井 敏明2、須田 良幸3、塚本 貴広1 (1.電気通信大学、2.情報通信研究機構、3.東京農工大学)
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15:00 〜 15:15
〇岡次 徹1、永野 貴寛1、倉重 貴行1、片山 慶太1、柿本 祥明2、中村 大輔1、後藤 哲也3、池上 浩1,2 (1.九大院シス情、2.九大ギガフォトン部門、3.東北大未来研)
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15:15 〜 15:30
〇(M1)大矢 雅人1、葉 文昌1、曲 勇作1 (1.島根大)
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15:45 〜 16:00
〇(M1)齊藤 雅高1、鄭 源宰1、劉 龍1、小柳 陽平1、菅原 大暉1、渡辺 正裕1 (1.東工大工)
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16:00 〜 16:15
〇(B)藤田 裕1、石原 翔治1、田辺 克明1 (1.京大化工)
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16:15 〜 16:30
〇佐々木 伸夫1,2、高山 智之2、浦岡 行治2 (1.Sasaki Consulting、2.奈良先端大)
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16:30 〜 16:45
〇清水 昇1、王 一1、山本 圭介1、張 師宇2、中塚 理2,3、王 冬1 (1.九大・総理工、2.名大・院工、3.名大・未来研)
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16:45 〜 17:00
〇澤間 佑葵1、岡田 竜弥1 (1.琉球大理工)
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17:00 〜 17:15
〇菱田 光起1、宮野 謙太郎1、小畑 直彦1、信岡 政樹1、野口 隆2、岡田 竜弥2 (1.パナソニック スマートファクトリーソリューションズ(株)、2.琉球大 工)
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17:15 〜 17:30
霜田 音吉1、コスワッタゲー チャリット ジャヤナダ1、野口 隆1、梶原 隆司2、佐道 泰造2、〇岡田 竜弥1 (1.琉大工、2.九大工)
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17:30 〜 17:45
〇高山 智之1、佐々木 伸夫1,2、浦岡 行治1 (1.奈良先端大、2.Sasaki Consulting)
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17:45 〜 18:00
〇鈴木 翔1、冨塚 啓吾1、原 明人1 (1.東北学院大工)
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