一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
2022年3月24日(木) 13:30 〜 18:30 E106 (E106)
小幡 孝太郎(理研)、中嶋 聖介(静岡大)、富田 卓朗(徳島大)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 13:45
〇古市 健人1、山本 健1、土屋 叡本2、高橋 孝2、内海 慶春3、柴田 明宣4、山口 誠5、小林 洋平2、富田 卓朗1 (1.徳島大、2.東大物性研、3.日本アイ・ティ・エフ(株)、4.日新電機(株)、5.秋田大)
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13:45 〜 14:00
〇河野 太洋1、峯 元希1、三村 一暉1、山口 誠2、岡田 達也1、富田 卓朗1 (1.徳島大、2.秋田大)
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14:00 〜 14:15
〇谷 水城1、佐々木 翔1、篠原 康1、石川 顕一1 (1.東大院工)
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14:15 〜 14:30
〇(P)吉崎 れいな1、伊藤 佑介1、任 国旗1、小池 匠1、孫 慧傑1、長藤 圭介1、杉田 直彦1 (1.東大院工)
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14:30 〜 14:45
〇乙部 智仁1、Venkat Prachi1 (1.量研)
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14:45 〜 15:00
〇加藤 洋生1、石川 顕一1 (1.東京大院工)
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15:15 〜 15:30
〇村中 景輝1、長野 陽1、寺川 光洋1,2 (1.慶大院理工、2.慶大理工)
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15:30 〜 15:45
〇(P)Shi Bai1、Kotaro Obata1、Koji Sugioka1 (1.RAP, RIKEN)
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15:45 〜 16:00
〇(M2)松永 将之1、篠原 康1、石川 顕一1 (1.東大院工)
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16:00 〜 16:15
〇甲斐 将人1、林 秀一郎2、寺川 光洋1,2 (1.慶大理工、2.慶大院理工)
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16:15 〜 16:30
〇(B)川端 祥太1,2、小幡 孝太郎1、白 石1、宮地 悟代2、杉岡 幸次1 (1.理研 光量子、2.東京農工大)
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16:30 〜 16:45
〇小幡 孝太郎1、川端 祥太1,2、花田 修賢3、宮地 悟代2、杉岡 幸次1 (1.理研 光量子、2.東京農工大、3.弘前大理工)
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17:00 〜 17:15
〇赤尾 英一1、田中 陽2、Yalikun Yaxiaer1,2、細川 陽一郎1 (1.奈良先端大物質、2.理研)
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17:15 〜 17:30
〇吉富 大1、高田 英行1、小林 洋平2、奈良崎 愛子1 (1.産総研、2.東大物性研)
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17:30 〜 17:45
〇Daniela Serien1、Aiko Narazaki1 (1.AIST)
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17:45 〜 18:00
〇高田 英行1、吉富 大1、奈良崎 愛子1 (1.産総研)
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18:00 〜 18:15
〇(M1)平野 和弥1、中嶋 聖介1 (1.静大院工)
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18:15 〜 18:30
〇(M1)土屋 叡本1、谷 峻太郎1、櫻井 治之1、小林 洋平1 (1.東大物性研)
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