[23p-E204-1~13] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[23p-E204-10] ペロブスカイト／Siタンデム太陽電池応用に向けたALD-TiO₂層のXPS評価

〇野平 博司¹、桐原 芳治²、辻口 良太²、小山 涼¹、中田 和吉³、石川 亮佑^1,3 (1.東京都市大理工、2.東京都市大院理工、3.東京都市大総研)

キーワード：ALD、TiO2、X線光電子分光法

ペロブスカイト太陽電池の電子輸送層として用いられるチタン酸化物層を、低温で高品質な膜が堆積可能な原子層堆積法（ALD）により製膜した。その試料を用いて、真空中200、 250、300 ℃のアニール処理に伴うTiO2層の変化をX線光電子分光法を用いて調べた。その結果、300℃のアニール処理で3価のTiとTi-OH成分の減少が観測された。