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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[24a-E204-1~8] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2022年3月24日(木) 09:30 〜 11:45 E204 (E204)

島久(産総研)、西佑介(京大)

11:15 〜 11:30

[24a-E204-7] TiN/Hf/HfO₂/Au/ HfO₂/ TiN –素子における電圧パルス下での抵抗変化挙動

〇(M1)黄川洋¹、田中正和²、畠中林太郎¹、清水智弘¹、伊藤健¹、新宮原正三¹ (1.関西大理工学研究科、2.関大システム理)

キーワード：抵抗変化デバイス