[24p-E103-1~17] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[24p-E103-4] Feシリサイドドットの発光特性評価

〇古幡 裕志¹、斎藤 陽斗²、牧原 克典¹、大田 晃生¹、田岡 紀之¹、宮﨑 誠一¹ (1.名大院工、2.名大工)

キーワード：シリサイド、ナノドット