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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[25a-F307-1~8] 6.4 薄膜新材料

2022年3月25日(金) 09:15 〜 11:30 F307 (F307)

岡大地(東北大)、高津浩(京大)

10:30 〜 10:45

▲ [25a-F307-5] Epitaxial growth of Bi₃O₂S₂Cl thin films with mist chemical vapor deposition

〇(M2)Zhengkang PENG¹、Daichi Oka¹、Tomoteru Fukumura¹ (1.Tohoku Univ.)

キーワード：Epitaxial thin film, mist CVD, mixed anion compound