[25p-D215-1~13] 3.5 レーザー装置・材料

[25p-D215-11] フッ化物光ファイバーデバイスの需要拡大のための耐候性・親水性ナノ薄膜の形成

〇上原 日和¹、松尾 保孝²、合谷 賢治³、西島 喜明⁴、安原 亮¹、村上 政直⁵、小西 大介⁵ (1.核融合研、2.北大電子研、3.秋田県大、4.横国大、5.三星ダイヤモンド工業(株))

キーワード：フッ化物光ファイバー、原子層堆積法、中赤外ファイバーレーザー

フッ化物ガラス光ファイバーを利用した赤外ファイバーレーザー及び赤外光ファイバーセンサーの耐候性向上のため、ジルコニウム系フッ化物（ZBLAN）ガラス光ファイバーへの酸化物ナノ薄膜形成を試みた。
本講演では、複雑形状へのナノ緻密膜形成が可能な「原子層堆積法」に着目し、新たなフッ化物ファイバーデバイスの保護手法を提案する。