[26a-E104-1~11] 15.7 結晶評価，不純物・結晶欠陥

[26a-E104-11] ボロンドープCZシリコン基板における水素と酸素の熱処理挙動

〇棚橋 克人¹、白澤 勝彦¹、平藤 駿介²、高遠 秀尚¹ (1.産総研、2.京セラ)

キーワード：シリコン、水素、熱処理挙動