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△ [26a-E104-5] Si(100)表面を対象とするANNポテンシャルの開発と計算精度の検証
キーワード:表面、計算
LSIの微細化,高性能化に伴い,その製造領域となる半導体Siウェーハの表面近傍には,原子レベルで非常に高い完全性が要求されている.このため,Si表面近傍に対する注目は益々高まっている.本研究では,既存の計算手法に対し新たに機械学習を用いた計算手法,Si(100)表面用の人工ニューラルネットワーク(ANN)ポテンシャルを開発しその計算精度を検証した.