[26a-P03-1~15] 8 Plasma Electronics(Poster)

[26a-P03-12] Magnesium-Oxide Based Ceramics for Chamber Parts of Plasma Etching Equipment in Semiconductor Manufacturing Line

〇Yuji Kasashima¹, Takashi Ikeda², Tatsuo Tabaru¹ (1.AIST SSRC, 2.Nippon TungstenNippon Tungsten Co., ltd.)

Keywords:plasma etching, magnesium-oxide based ceramics, particle

プラズマエッチング装置のチャンバー部品材料として用いられるセラミックスには、反応性の高いプラズマに対する耐食性の向上及びパーティクル発生の低減が求められている。本発表では、高耐性と低発塵性を有する新規材料として開発に取り組んでいるMgO系セラミックスの研究成果を発表する。