[26a-P03-1~15] 8 プラズマエレクトロニクス(ポスター)

[26a-P03-7] 高移動度IGZO薄膜トランジスタの大面積均一形成に向けたプラズマ支援反応性プロセスの開発

〇竹中 弘祐¹、吉谷 友希¹、都甲 将¹、内田 儀一郎²、江部 明憲³、節原 裕一¹ (1.阪大接合研、2.名城大理工、3.イー・エム・ディー)

キーワード：IGZO、スパッタリング